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雕刻機平臺兩側(cè)雕刻不均的原因

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雕刻機平臺兩側(cè)雕刻不均的原因

發(fā)布日期:2020-02-24 作者: 點擊:

    在平臺的一邊雕刻的很清晰,深度也滿意,質(zhì)量很好,而在另一側(cè)則很模糊,深度變淺,質(zhì)量很差。故障原因:焦距不準。

    解決方案:重新對焦。

    故障原因:激光系統(tǒng)臟了。

    解決方案:清潔所有光學部件,導軌,軸承和皮帶。

    故障原因:材料不水平或厚度不一致。

    解決方案:檢查不同位置的焦距,使用更多的厚度一致的材料。

1540539176887768.jpg

    故障原因:平臺不水平。

    解決方案:使用對焦工具,在平臺的四個角測量焦距.平臺的高度差應在+/-0.20英寸范圍內(nèi).如果需要的話進行調(diào)整。

    故障原因:激光束沒有對中。

    解決方案:檢查調(diào)整激光束對中。

    故障原因:空氣助推器的錐形部件方向偏離(帶有空氣助推器的機型)。

    解決方案:檢查并調(diào)整此部件方向準確。

    故障原因:激光管工作不正常

    解決方案:更換激光管


本文網(wǎng)址:http://rettificagabriotti.com/news/549.html

關鍵詞:重慶uv平板機,雕刻機,UV卷材機

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